主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長(zhǎng)，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱系統(tǒng)設(shè)計(jì)為上下可開(kāi)啟式結(jié)構(gòu)，方便觀察石英管以及物料的狀態(tài)。

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場(chǎng)均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡(jiǎn)便快捷，是各大材料實(shí)驗(yàn)室的理想設(shè)備之一。

該系統(tǒng)為 PECVD系統(tǒng)，它包括真空管式爐系統(tǒng)、石英真空室、真空抽氣與真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、匹配器，溫度范圍寬：100-1100度可調(diào)。適用范圍寬:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，連續(xù)生長(zhǎng)各種薄膜等

設(shè)備描述：CVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。各通道氣路的流量設(shè)定和狀態(tài)顯示都集中在一個(gè)7“的觸摸屏上，同時(shí)可以實(shí)時(shí)查看氣體流量曲線和數(shù)據(jù)。此款設(shè)備廣泛的用于材料界中CVD實(shí)驗(yàn)和各種材料的退火實(shí)驗(yàn)。

化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備技術(shù)參數(shù)