真空提拉爐LFT1700C100D80-TSSGVC-2設(shè)備為真空或者氣氛保護(hù)條件下的提拉設(shè)備，樣品處理位于剛玉管內(nèi)，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過(guò)壓縮波紋管和真空旋轉(zhuǎn)接頭與電機(jī)相連。可滿足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉(zhuǎn)和提拉。

立式淬火爐 LFT1500C 50D30 OP如圖所示，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。該設(shè)備設(shè)計(jì)為立式結(jié)構(gòu)，樣品由吊絲固定,真空腔室上端配有電磁鐵固定吊絲,可在真空條件下完成淬火工作。

1700系列單溫區(qū)真空提拉爐設(shè)備為真空或者氣氛保護(hù)條件下的晶體生長(zhǎng)設(shè)備，樣品處理位于剛玉管內(nèi)，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過(guò)壓縮波紋管和真空旋轉(zhuǎn)接頭與電機(jī)相連。可滿足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉(zhuǎn)和提拉。

煅燒爐LFT1200C Ф40如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅碳棒。

單溫區(qū)立式滑軌爐設(shè)計(jì)為立式結(jié)構(gòu)，爐體可電動(dòng)滑動(dòng)。預(yù)升溫的管式爐可快速移動(dòng)到樣品區(qū)，實(shí)現(xiàn)樣品快速升溫反應(yīng)。也可程序控制升溫，實(shí)驗(yàn)擴(kuò)張性好。反應(yīng)氣體自上而下，爐管下端通過(guò)磨砂口密封和下端出氣口相連，經(jīng)過(guò)冷卻槽后將多余氣體排出。

LFT1700C系列高溫真空管式爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用1800型真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅鉬棒。

新能源材料設(shè)備特點(diǎn)：該設(shè)備是由開(kāi)啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設(shè)計(jì)的，其滑軌式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中可滿足多種工藝要求

大口徑高溫高壓芯片退火管式爐設(shè)備用于較大尺寸（最大尺寸為8英寸）襯底退火處理，設(shè)備采用電阻絲為加熱元件，保溫材料為氧化鋁纖維爐膛真空吸附成型，電阻絲為內(nèi)嵌式一體成型；該設(shè)備還集成了真空以及供氣系統(tǒng)。